반도체 공정에 필요한 물…'초순수' 기술 자립 실현

[앵커]

반도체를 만드는 과정에서 꼭 필요한 물이 있습니다.

'극도로 순수한 물', 바로 초순수인데요.

그간 이 기술은 해외에 의존해 왔는데 최근 몇 년 사이 국산화를 위한 연구가 이어졌고 이르면 내년 상반기 상용화를 앞두고 있습니다.

김민혜 기자입니다.

[기자]

반도체 원판인 웨이퍼를 씻는 데 쓰이는 물, '초순수'입니다.

불순물을 최대한 제거한 물로, 일반 수돗물의 경우 7단계의 정수 과정을 거치는 반면 이 초순수는 자외선 산화 등 무려 25단계 공정을 거쳐 탄생합니다.

반도체 제작 과정에서 생명수 같은 역할을 하지만, 지금까지는 기술 축적 등의 한계로 일본 등 일부 해외 국가가 독점하고 있습니다.

그러나 2019년 일본의 반도체 수출규제 등을 계기로 대외 리스크 없는 공급 필요성이 커졌고, 환경부와 수자원공사가 지난 2021년부터 본격적인 기술개발에 뛰어든 결과 상용화를 눈앞에 두고 있습니다.

이르면 내년 상반기부터 SK 하이닉스 반도체 공정에 쓰일 전망으로, 협약을 통해 사업을 구체화할 계획입니다.

<곽노정 / SK하이닉스 대표이사> "초순수의 기술 자립이 이뤄질 수 있는 기본 협력은 우리나라 반도체 생태계 구축에 있어서 매우 중요하다…."

또 이를 통해 향후 국내 안정적인 공급을 위한 발판을 마련할 수 있을 것으로 기대하고 있습니다.

<윤석대 / 한국수자원공사 사장> "초순수 운영부터 설계, 시공까지 단계적으로 초순수 산업을 육성하고, 나아가 반도체 산업에 필요한 물 공급까지 민관협력을 확대"

반도체 등 첨단산업 발전으로 전 세계 초순수 시장은 2021년 약 28조원에서 2040년 48조원 규모로 성장할 거란 전망이 나옵니다.

정부는 내년까지 초순수 시설 설계와 운영은 100%, 장비는 70%까지 국산화하겠다는 목표입니다.

연합뉴스TV 김민혜입니다. (makereal@yna.co.kr)

[영상취재기자 : 진교훈]

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